晶圓鍍銦柱Pillar：操作電流密度范圍廣，鍍層均勻，不受被鍍物幾何形狀的影響。
操作條件
參 數(shù)
范 圍
最 佳 值
銦金屬
40 - 60 g/L
50 g/L
甲基磺酸
47 - 67 g/L
57 g/L
溫度
40 – 60 ℃
50 ℃
REM-7397
40 - 60 ml/L
50 ml/L
溶液攪動
強力攪動
陰極電流密度
5 - 60 ASD
依設(shè)備及產(chǎn)品而定
陽極：陰極比
1:1 - 6:1
沉積速率
2 到 3um/min(10ASD)
